集微网消息，上海微电子装备（集团）股份有限公司于11月28日公开了其最新的光刻机相关专利。据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”,申请公布号CN117130226A。
该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。
上海微电子装备（集团）股份有限公司成立于2002年3月，法定代表人为干频，经营范围含半导体装备等的开发、设计、制造、销售及技术服务等，由上海电气控股集团有限公司（42.3%）、上海科技创业投资有限公司（14.21%）等共同持股。
（校对/张杰）
