占据全球光刻胶市场约五分之一份额的日本化工企业JSR计划在中国台湾兴建其首座生产工厂，与台积电合作开发先进光刻胶。该公司于4月初与一家中国台湾公司合作成立合资企业，并计划最早于2028年投产，为此将投资数千万美元。
该工厂的建成将弥补JSR在中国台湾市场相对于其两大日本竞争对手的劣势。东京应化工业株式会社（TOK）和信越化学株式会社均已在中国台湾设有生产工厂，并与台积电直接合作开发光刻胶。
光刻胶是一种感光材料，用于在光刻过程中将电路图案转移到硅片上。在先进工艺节点上，光刻胶必须经过精确调校，才能与特定的光刻设备和刻蚀化学工艺配合使用。这种调校需要光刻胶供应商和代工厂之间不断反复沟通。
JSR目前通过从其位于日本、美国和比利时的工厂向中国台湾客户寄送样品来开发产品，但每次往返可能需要数周时间，这拖慢了迭代过程，而其竞争对手可以在本地生产基地更快地完成迭代。在中国台湾建厂可以让JSR的工程师更紧密地融入台积电的研发团队，TOK和信越化学已经采用这种模式。除了光刻胶之外，JSR还考虑在中国台湾工厂生产其他材料，例如用于平滑半导体衬底的研磨剂。
JSR在中国台湾的扩张是其更广泛扩张计划的一部分。与此同时，该公司还在韩国建设全球首个金属氧化物光刻胶（MOR）量产工厂，预计将于2026年开始量产。该工厂将为三星电子和SK海力士供应用于EUV光刻的锡基MOR。
与旧工艺节点使用的传统化学放大光刻胶相比，MOR能更有效地吸收EUV光子，从而实现更高的分辨率和更少的图案缺陷。JSR于2021年收购MOR领域先驱Inpria公司，并自此一直在开发基于氧化锡的配方。该公司还计划向台积电销售MOR，从而为台积电在2nm及以下工艺节点所需的下一代EUV和High NA EUV生产线做好准备。
日本公司合计占据全球光刻胶市场约80%的份额，并几乎完全主导高端EUV市场。中国企业已在KrF和i-line层面取得进展，但在ArF及以上级别的市场渗透率仍然很低。
“中国企业构成威胁，但他们还需要一段时间才能赶上我们并抢占市场份额。”JSR负责电子材料业务的高级主管Toru Kimura表示。JSR的战略似乎是通过在技术壁垒最高的尖端领域建立合作开发关系来保持领先地位。（校对/赵月）
