近日，国务院公布了新修订的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），这是《条例》20多年来的首次系统性修订。修订内容主要涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等多方面。其中，最为重要的修改内容便是扩展保护范围，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入《条例》法定保护范围，破解新型集成电路知识产权保护难题。
一、集成电路技术发展进入革新时代
为保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，我国《集成电路布图设计保护条例》于2001年颁布，彼时立足产业发展实际，借鉴国际立法经验，将保护对象聚焦于电子传输、电子运算的传统集成电路布图设计。当前，传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界，光子、量子等颠覆性技术不断涌现，推动集成电路迈入以新架构、新机理、新材料、新器件为竞争主线的后摩尔时代。各国在不断探索突破传统集成电路特征尺寸物理极限的同时，正在开辟新型集成电路技术路径。我国“十五五”规划明确提出，要“提升高端芯片、光电子器件、基础软件和工业软件等产业水平”，“实施人工智能、量子科技、生物科技、新能源等科技战略部署”，在集成电路领域要“推进存算一体、三维集成、光电融合等技术突破应用”。新修订的《条例》及时回应技术发展前沿，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入保护范围，正是对集成电路技术发展的准确把脉与积极回应。
二、实现新型集成电路布图设计全方位保护
《条例》是知识产权法律体系中技术性、专业性较强的法规之一，集成电路与集成电路布图设计的概念便是这一特征的集中体现。《条例》对“集成电路”和“集成电路布图设计”分别进行了明确界定，兼顾了集成电路技术特点与知识产权法律保护要件，确立了“三维配置”的布图设计认定标准，并规定含有布图设计的产品应执行某种电子功能等要件，准确界定了传统微电子集成电路及布图设计的法律概念。但随着光子、量子信息与微电子技术的深度融合，光电融合集成、硅光光子集成、量子芯片等前沿技术迭代提速，相关产品功能维度已突破传统单一电子信号处理范畴，若严格沿用传统集成电路定义，难以有效保护创新。
虽然实践中已通过个案审查的方式实现对新型集成电路布图设计的保护，但随着技术快速演进，集成电路愈发呈现出器件定性模糊、功能载体分化等特点，技术层面的广义范畴与法律层面的狭义认定之间的矛盾会逐渐增大，实践中难免出现确权依据不足、行政司法裁判标准不一等问题，有待立法从根本上予以解决。新修订的《条例》在沿用传统集成电路概念的基础上，明确规定“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护”，有效解决了未来集成电路器件、载体等定性问题，对集成电路布图设计知识产权法律保护问题进行了前瞻性、专业性回应。
三、护航我国集成电路技术创新发展
《条例》此次修订提升了集成电路布图设计知识产权保护水平，是护航我国集成电路技术创新发展的重要举措。集成电路设计环节处于产业链上游，决定着芯片的性能、功耗与竞争力。随着技术发展，光子芯片、量子芯片产品迭代周期进一步缩短，波导排布、量子比特布局、三维异构互连、版图拓扑优化等版图架构设计更加成为技术竞争的关切点。修订后的《条例》，将进一步筑牢前沿集成电路知识产权保护屏障，构建起适配我国集成电路技术创新节奏的制度体系。自2022年起，我国含有光子、量子器件的集成电路布图设计登记申请数量开始增多，2024年后呈现出规模申报的趋势。可以预见，修订后的《条例》将与时代同频共振，进一步发挥集成电路布图设计专有权的保护优势，激励创新主体设计热情，促进我国集成电路技术创新发展。
