10月13日，苏大维格在苏州工业园区举行卓越创新中心开工仪式。
苏大维格科技集团股份有限公司（以下简称“苏大维格”）已建成2.66万平方米办公和厂房。此次将利用剩余34亩空地建设SVG微纳光制造卓越创新中心一期，建筑面积6.5万平方米，计划2028年底竣工投用。
该中心建成后将作为江苏省重点实验室、微纳光制造先进技术研究院和成果孵化中试基地，承载前沿基础研究、关键核心技术攻关与创新成果转化三大功能，聚焦半导体光刻、光学检测、新型显示等领域，突破“卡脖子”技术，助力园区高端制造产业建设。
苏大维格成立于2001年，核心产品涵盖光学立体成像材料、导光材料、柔性透明导电膜、各类微纳功能膜材。近两年重点布局半导体掩模缺陷检测和先进封装光刻设备，补齐国内半导体光刻检测环节的国产化短板，有力推动半导体行业装备国产替代进程。该公司自主构建激光直写光刻、纳米压印两大核心装备技术体系，贯通“微纳光学设计—光刻装备研制—精密模具开发—功能材料器件规模化制造”的完整产业链，并形成“1总部+1研发中心+18家控股子公司”的集团化经营格局，是国家制造业单项冠军企业和专精特新“小巨人”企业。
