越南首座晶圆厂目标落空!厂区荒草覆盖,尚未达成采购DUV光刻机

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越南首座半导体工厂恐怕难以实现2027年启动试生产的目标——知情人士称,越南向ASML采购芯片制造设备的协议至今尚未达成。

实地探访显示,这座位于河内郊区的厂址仍被荒草覆盖。Planet Labs PBC于2026年1月、Airbus于2026年10月拍摄的卫星图像也证实,此处尚未建成任何建筑。

知情人士表示,由于开发商Viettel缺乏建造芯片工厂的经验,加之在快速落实政府资金时遇到行政障碍,2027年的目标很可能无法实现。这项政府主导的项目仍在推进,但时间表尚不明朗。

Viettel表示,项目“正按照既定计划与进度推进”,“项目活动正按技术要求与实施要求分阶段推进。我们将在适当时机提供进一步消息。”

该项目是越南推动国家向半导体价值链上游迈进计划的一部分。越南提出,到2045年成为高收入经济体,2030年前经济增速至少达到10%。

Viettel于2026年1月为该厂址动工,当时表示希望工厂在2030年前全面投入运营,并打算将芯片供应给航空航天、电信和汽车行业。有关方面估计,建厂成本约为13亿美元。

知情人士表示,谈判涉及采购一台深紫外(DUV)光刻机——这种设备用于在硅晶圆上印制电路图案。

Viettel在2026年1月的一份演示材料中表示,计划采用32nm制程技术生产半导体——对芯片制造领域的新玩家而言,这是颇具雄心的起点。

相比之下,印度塔塔电子曾表示,其与力积电合作开发、投资110亿美元的古吉拉特邦项目,将从55nm和90nm制程起步,之后再增加更先进的28nm制程。

有关32nm的表述随后已从Viettel官网上删除。Viettel也尚未披露是否与某家成熟芯片制造商合作以提供技术与专业经验。

据业内消息人士称,越南政府吸引外国投资者赴越建设芯片制造设施的努力迄今未获成功。

不过,越南正在资本密集度较低的半导体组装、测试与封装(ATP)领域快速成长为枢纽。英特尔、安靠和Hana Micron都在越南设有大型ATP工厂,三星也在计划建设一座芯片测试设施。

ASML的供应商也在越南设有业务,包括Coherent和VDL Enabling Technologies Group,不过它们的本地工厂主要服务ASML以外的客户。(校对/赵月)

责编: 李梅
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