拉普拉斯“半导体加工系统”专利获授权

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天眼查显示,拉普拉斯新能源科技股份有限公司“半导体加工系统”专利获授权,授权公告日为10月31日,授权公告号为CN219930244U。

图片来源:天眼查

专利摘要显示,本实用新型公开了一种半导体加工系统,该半导体加工系统包括炉体、进气管路和平衡管路,炉体为多个,每个炉体均设有炉腔以及与炉腔连通的进气通道和平衡通道,进气管路的进气端与外部气源连通,进气管路的出气端与进气通道连通,平衡管路用于连通多个平衡通道以使得多个炉腔连通。该半导体加工系统的结构简单,且多个炉体内的反应条件一致,最终产品加工完成后出现差异的较小,提升了产品的均匀性。(校对/刘沁宇)

责编: 刘沁宇
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