3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布其等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台。这包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。等离子体刻蚀机，是光刻机之外，最关键的、也是市场最大的微观加工设备。由于微观器件越做越小和光刻机的波长限制，也由于微观器件从二维到三维发展，刻蚀机是半导体设备过去十年增长最快的市场。这一重要里程碑标志着中微公司在等离子体刻蚀设备领域持续得到客户与市场的广泛认可，也彰显了公司在等离子体刻蚀领域已进入国际前列。

中微公司刻蚀设备

中微公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包括十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI设备。

中微公司的刻蚀设备在过去的20年积累了大量的芯片生产线量产数据和客户验证数据，已经可以覆盖绝大多数的刻蚀应用，包括各种高端的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备不断扩大市场占有率，该公司的CCP高能等离子刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备的出货量近年来都保持高速增长。CCP设备在线累计装机量近四年年均增长大于37%，已突破4000个反应台；ICP设备在线累计装机量近四年年均增长大于100%，已突破1000个反应台。截至2025年2月底，公司累计已有超过5400个反应台在国内外130多条生产线，全面实现了量产和大规模重复性销售。

据业绩快报显示，中微公司2024年营业收入约90.65亿元，较2023年增加约28.02亿元。该公司在过去13年保持营业收入年均增长大于35%，近四年营业收入年均增长大于40%的基础上，2024年营业收入又同比增长约44.73%。其中，刻蚀设备收入约72.77亿元，在最近四年收入年均增长超过50%的基础上，2024年又同比增长约54.73%。