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北方华创“半导体设备的工艺腔室”专利公布

作者: 爱集微 06-12 17:12
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来源:爱集微 #北方华创#
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天眼查显示,北京北方华创微电子装备有限公司“半导体设备的工艺腔室”专利公布,申请公布日为2025年2月14日,申请公布号为CN118422139A。

本申请提供一种半导体设备的工艺腔室,包括工艺腔体、基座、防护内衬以及接地装置;基座可升降地设置于工艺腔体内,用于支撑晶片,防护内衬围绕工艺腔体的内侧壁设置,用于保护工艺腔体的内侧壁,接地装置包括第一连接件、第二连接件和连接弹簧,第一连接件与基座相连,第二连接件通过连接弹簧与第一连接件相连,第二连接件能够与防护内衬贴合,以电连接基座和防护内衬。第一连接件与基座电连接,在基座上升至加工位时,连接弹簧支撑第二连接件与防护内衬贴合,从而实现基座与防护内衬的电连接,使二者处于相同电位,避免了二者之间发生电弧打火。连接弹簧能够经过多次伸缩不会发生损坏,延长接地装置的使用寿命。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #北方华创#
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