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京东方“一种天线副瓣优化的方法及电子设备”专利公布

作者: 爱集微 04-26 17:50
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来源:爱集微 #京东方#
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天眼查显示,北京京东方技术开发有限公司“一种天线副瓣优化的方法及电子设备”专利公布,申请公布日为2024年2月14日,申请公布号为CN119447837A。

本发明公开了一种天线副瓣优化的方法及电子设备,用于基于拼阵类型选择幅值优化类型,考虑到不同拼接方式对波束副瓣性能的影响,能有效降低子阵列间的非有效区对副瓣性能恶化的影响。该方法包括:确定天线阵列的幅值范围和拼阵类型,所述天线阵列由多个子阵列拼接而成,每个子阵列包括多个天线单元,所述拼阵类型表示所述子阵列的拼接方式;根据所述拼阵类型确定所述天线阵列的幅值优化类型,所述幅值优化类型表示对所述天线阵列的各子阵列的波束幅值进行优化的方式;按照所述幅值优化类型,在所述幅值范围内对所述天线阵列的波束幅值进行优化,得到所述天线阵列的最优副瓣结果。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #京东方#
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*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

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