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京东方“掩膜构件以及掩膜版”专利公布

作者: 爱集微 04-04 07:28
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来源:爱集微 #京东方#
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天眼查显示,成都京东方光电科技有限公司“掩膜构件以及掩膜版”专利公布,申请公布日为2025年2月28日,申请公布号为CN119530707A。




本发明提供了一种掩膜构件以及掩膜版,掩膜构件与掩膜框配合形成掩膜版,掩膜框包括框本体和在由框本体包围的范围内分别沿第一方向延伸的第一支撑条和沿第二方向延伸的第二支撑条。掩膜构件包括:构件本体,在掩膜构件作为遮挡掩膜条与掩膜框配合使用时构件本体与第一支撑条和第二支撑条至少之一贴合和/或在掩膜构件作为对准掩膜条与掩膜框配合使用时构件本体与框本体的第一边框和第二边框至少之一贴合;漏液区包括漏液孔,设置在构件本体上,用于使掩膜版被使用后在缝隙处残留的液体排除,从而减少了药液残留,提高了显示面板的显示性能。

责编: 爱集微
来源:爱集微 #京东方#
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*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

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