2月27日，中微公司（688012.SH）发布2025年度业绩快报。报告显示，公司全年实现营业总收入约123.85亿元，同比增长36.62%；实现归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，同比增长30.69%；实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约15.50亿元，同比增长11.64%。
资产规模方面，报告期末公司总资产约297.72亿元，较期初增长13.56%；归属于母公司的所有者权益约226.95亿元，较期初增长14.99%，财务状况稳健向好。
报告期内，公司主营产品等离子体刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长35.12%。作为半导体前道核心设备之一，公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。
公司在新产品开发方面取得了显著成效，近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备。报告期内，LPCVD和ALD设备销售约5.06亿元，同比增长高达224.23%。
目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进。公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段，为未来增长储备新动能。
中微公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段。
公司新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。
由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长，2025年公司加大研发力度，以尽快弥补国产半导体设备短板，积极赶超，为长期持续增长打好基础。
2025年公司研发投入约37.44亿元，较去年增长12.91亿元，同比增长约52.65%，研发投入占公司营业收入比例约为30.23%，远高于科创板均值。其中，研发费用24.75亿元，较去年增长约10.58亿元，同比增长约74.61%。
产能布局方面，公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，合计超过32万平方米的产业化空间保障了公司销售快速增长。
公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付也为公司销售增长提供有力支撑。公司特别重视核心技术的创新，始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入，同时运营管理水平持续提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强。
