3月25日-27日，备受业界瞩目的半导体行业盛会SEMICON China 2026在上海新国际博览中心盛大举行。在展会首日，长电科技董事、首席执行长郑力发表题为《先进封装的原子级革新定义芯片成品制造新范式》的主题演讲，围绕后摩尔时代芯片制造路径演进，系统阐述了先进封装从“辅助角色”走向“核心驱动力”的关键转折，并指出原子级精度正成为推动产业变革的重要引擎。
郑力表示，随着集成电路持续向更先进节点演进，传统依赖晶体管微缩的路径正逐步逼近物理极限，行业亟须新的技术范式来承接算力增长需求，而先进封装正是在这一背景下迎来历史性机遇。
从微缩逼近极限到系统级重构，先进封装成制造新主线
郑力指出，先进逻辑制程正逼近更严峻的物理与经济约束，单纯依赖传统微缩路径提升系统性能的难度显著增加。 在这一背景下，混合键合等先进封装技术的发展，使芯片成品制造真正走上了系统化集成之路。
“过去我们一直强调微缩，但当物理极限逐渐显现时，必须寻找新的路径。”郑力表示，早在摩尔定律提出之初，市场就已经提出系统集成的思路，而在当前阶段，这一路径正在从理论走向现实。
他进一步指出，过去几年虽然行业持续关注先进封装，但受限于精度与工艺能力，其尚未真正承担核心角色。而随着关键技术突破，先进封装正在迎来“转折点”，开始从配套环节走向产业主线。
原子级精度驱动制造范式跃迁，芯片性能迈向系统级新高度
郑力强调，本轮发展的核心，在于先进封装正在经历的“精度革命”。他指出，这一变革并非单一指标提升，而是在“对准精度”“互连密度”“表面粗糙度”和“界面间隙”四个关键维度实现系统性跨越，构成原子级工艺演进的核心支撑。
首先是在对准精度上的跨越。他指出，例如，以混合键合为代表的高密度互连技术，正在把芯粒间互连从百级/千级每平方毫米推进到万级乃至更高水平。其次是在界面与表面控制能力上的突破。郑力指出，随着封装向高密度互联演进，表面粗糙度成为关键瓶颈之一。 当表面达到原子级平整度时，芯片之间可以在分子层面实现真正意义上的结合。
第三是在互联密度与连接方式上的跃迁。郑力表示，相较传统封装有限的互联能力，先进封装通过高密度布线与混合键合技术，大幅提升单位面积内的连接数量。在这种模式下，电气性能与信号完整性显著改善，为高性能计算与AI算力提供关键支撑。
“当精度进入原子级之后，整个制造逻辑就发生了变化。”郑力表示，这意味着芯片制造不再单纯依赖晶体管尺寸的缩小，而是转向通过系统结构优化来实现性能提升。
“这实际上是换了一条路。”郑力表示，原子级先进封装为异质异构集成提供了基础，使行业在接近极限时实现“柳暗花明又一村”的突破。
AI赋能与产业协同，推动先进封装新生态形成
在演讲中，郑力多次强调AI对先进封装的重要作用。他表示，随着工艺复杂度大幅提升，传统依赖工程师经验进行参数调优的方式已难以适应当前需求。
“现在的先进封装，很多场景已经必须依赖AI。”郑力指出，从设备层到生产现场，AI正在全面介入工艺开发与制造过程，通过实时数据采集、数据清洗以及数字孪生建模，实现对工艺的动态优化与决策支持。
与此同时，原子级封装技术也为AI系统能力的扩展提供支撑。例如依托原子级封装，实现数千甚至数万个AI芯片的超大规模互联，从而打破算力瓶颈。依托光电合封（CPO）技术，可实现光电器件与芯片的微系统集成，为下一代高性能计算系统提供了更高效的实现路径。
此外，产业链协同也在发生深刻变化。郑力表示，传统“设计—制造—封测”相对分离的模式正在被打破，各环节必须在系统级框架下协同推进。
在这一过程中，测试环节的重要性显著提升。他指出，在多芯片堆叠架构下，测试复杂度呈指数级增长，不仅测试时间大幅延长，误测、漏测等问题也更加突出，非破坏性检测技术正成为关键方向。
此外，在材料与载体方面，郑力提到以玻璃基板为代表的新技术路线正在加速推进。相比传统材料，玻璃在高频性能、成本及热匹配方面具有优势。
郑力最后总结指出，在后摩尔时代，先进封装正在从根本上重塑芯片制造逻辑。通过向原子级精度演进，并结合系统级集成与AI赋能，行业正在构建一条全新的发展路径。
“从晶体管微缩到系统级扩展，这是一次范式转变。”郑力表示，先进封装不仅为突破物理极限提供了解决方案，也为产业链带来了更广阔的发展空间。
