天眼查显示，粤芯半导体技术股份有限公司近日取得一项名为“炉管设备的清洗方法及半导体工艺方法”的专利，授权公告号为CN117862147B，授权公告日为2024年5月17日，申请日为2024年3月12日。
本发明提供一种炉管设备的清洗方法及半导体工艺方法，通过步骤S1：向反应腔内通入第一清洗气体以清洗反应腔，第一清洗气体为含氯气体，以去除反应腔内的钠离子、钾离子和氢离子，避免对后续的工艺造成污染；步骤S2：使反应腔内的压力处于第一预设压力并向反应腔内通入第二清洗气体；步骤S3：将反应腔内的压力降低至第二预设压力；步骤S4：将反应腔内的压力提高至第三预设压力并向反应腔内通入第二清洗气体，第三预设压力小于第一预设压力；步骤S5：重复执行步骤S3和步骤S4以清除反应腔内的第一清洗气体。在去除第一清洗气体的过程中，无需升温或者降温、耗时短并可以节省能耗，能够清除反应腔内的含氯气体，提高产品晶圆上的产品氧化层均匀性。
