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芯碁微装“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布

作者: 爱集微 01-14 16:41
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来源:爱集微 #芯碁微装#
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天眼查显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布,申请公布日为2024年10月13日,申请公布号为CN119126500A。

本发明公开了一种曝光总成及具有其的光刻设备,曝光总成,包括:光源、分束器、承载件和检测设备,分束器与光源相对设置,分束器构造成对经过的光线进行分解导向;承载件与分束器相对设置,承载件用于承载件件;检测设备与分束器相对设置,且检测设备设于分束器背离承载件的一侧;光线透过分束器后到检测设备内进行传感分析。通过在曝光总成内设有分束器,分束器能够对经过光线进行反射分解,以让检测设备能够通过对承载件所反射的光线进行检测,以对曝光总成的使用情况进行实时监测与反馈,并根据当前检测结构调整曝光总成的曝光性能,以让曝光总成在使用过程中的输出性能能够满足当前需求,以提升曝光效果和曝光效率。

责编: 赵碧莹
来源:爱集微 #芯碁微装#
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