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拓荆科技2024年营收预增47.88%至55.27%,出货超过1000个设备反应腔

作者: 集小微 01-20 21:01
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来源:爱集微 #拓荆科技# #半导体设备# #薄膜沉积#
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拓荆科技日前发布2024年年度财报快报,预期2024年营业收入为40~42亿元,较2023年年度营业收入27亿元增加13亿~15亿元,同比增长47.88%至55.27%。

拓荆科技指出,主要增长原因包括,一方面,面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇,公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业,继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化,凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD(Flowable CVD)及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大,持续获得客户订单,公司业务规模呈现快速增长趋势。2024年度,公司出货超过1,000个设备反应腔,创公司历史年度新高。

另一方面,2024年度,公司持续保持高强度的研发投入,坚持自主创新,在推进新产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果,包括Flowable CVD设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入,实现了产业化,同时,新型设备平台PF-300M、PF-300T Plus及新型反应腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工艺设备顺利通过客户验证,并取得客户重复订单,实现大批量出货, 进一步提升了公司产品性能及核心竞争力,助力公司收入稳步增长。

责编: 张轶群
来源:爱集微 #拓荆科技# #半导体设备# #薄膜沉积#
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*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

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