4月24日，拓荆科技发布2024年年度业绩报告。报告显示，公司全年实现营业收入41.03亿元，同比增长51.7%；归母净利润6.88亿元，同比增长3.9%；扣非净利润3.56亿元，同比增长14.1%。

在经营层面，公司薄膜沉积设备业务实现多项技术突破，PECVD系列产品销售收入创历史新高，ALD系列产品市场覆盖率持续提升，带动销售订单大幅增长。三维集成领域取得重要进展，多款先进键合设备成功量产并获得重复订单，进一步巩固了在高端半导体设备市场的竞争力。公司全年设备反应腔出货量超过1000个，创历史年度新高，产品线覆盖逻辑芯片、存储芯片等领域的100多种工艺应用。

关于净利润增长的原因，公司在年报中说明如下：

1）公司继续加大研发力度，保持细分领域内产品技术领先，不断丰富薄膜沉积设备及应用于三维集成领域设备产品的品类，拓宽工艺应用覆盖面，在新产品、新型平台的研发、验证及产业化应用等方面均取得了突破性成果。PECVDBianca产品，以及基于新型设备平台（PF-300TPlus和PF-300M）和新型反应腔（pX和Supra-D）的PECVDStack（ONO叠层）、ACHM等先进工艺设备，实现了批量出货，陆续通过客户验证。2024年研发投入75,597.63万元，同比增加18,002.75万元，增长31.26%。

2）报告期公司毛利率为41.69%，同比降低5.43个百分点，主要由于新产品及新工艺的收入占比大幅度增加，新产品及新工艺在客户验证过程成本相对较高，毛利率下降。

展望未来，拓荆科技表示，公司将继续紧抓国内半导体产业高速发展的市场机遇，面向国内半导体制造产业的实际需求和产线演进节奏，坚持以技术和产品创新驱动业务发展，通过持续加大研发投入，保持现有产品的核心竞争力，凭借已有的技术、人才、经验及售后服务等优势，不断扩大现有设备市场占有率。同时，面向市场技术的迭代需求，不断提高公司设备的技术先进性，丰富公司设备种类，拓展技术应用领域

（校对/黄仁贵）