鼎龙股份CMP抛光液三大业务板块同步突破,加速核心耗材国产化进程

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2026年5月26日,鼎龙股份发布关于公司CMP抛光液产品取得重大进展的公告。

其控股子公司鼎泽新材料近期在半导体CMP抛光液领域持续取得突破性进展:一是核心产品斩获头部晶圆厂客户优秀供应商奖项,HKMG氧化铝抛光液打破海外厂商垄断,成熟制程铜阻挡层抛光液攻克技术瓶颈实现批量供货;二是铜阻挡层抛光液再获新客户批量订单,完善铜制程产品矩阵布局;三是SiC衬底抛光液成功落地批量订单,自研磨料产品切入第三代半导体市场。

目前,公司实现了CMP抛光液产品全品类布局,产能储备充足。未来,公司将聚焦半导体高端材料主赛道,加大研发投入,保障经营业绩稳健增长。业务进展和订单执行不影响公司业务独立性,公司将跟进订单执行情况并披露信息,提醒投资者注意风险。

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